CAMRISでは,長崎大学の学生・教職員向けに,TSMC社提供の最先端半導体製造講義「Advanced CMOS Technology-Device,Process,Design,and Package」オンライン配信を受信し,講義室内限定で開講します(URLの配布を禁じられています。)。受講を希望する方は,毎回直接講義室に来室し,受講登録フォームに記載の上,受講されてください。 


 受講登録フォーム
       

〇科目名   「Advanced CMOS Technology-Device, Process, Design, and Package」

〇講師     TSMC社

〇開講日時   4月12日(金)・19日(金)・26日(金)
        5月10日(金)・17日(金)・24日(金)・31日(金)
        6月7日(金)
        全8回 16:40~18:10
        ※講義室にて九大での講義をライブ受信し,プロジェクタ(またはモニタ)で表示

〇講義室    工学部2号館 23番講義室

〇講義概要
The series of lectures is to provide an overview of semiconductor industrial practices, covering semiconductor devices, process flow with modules, design & technology co-optimization on FinFET technology, and 3D packaging. It would reveal where advanced CMOS technology is from and heading on, challenges encountered, and resolutions.
本講義では、半導体デバイス、モジュールによるプロセスフロー、FinFET技術における設計と技術の協調最適化、3Dパッケージングなど、半導体産業における実践の概要を説明する。先進的なCMOS技術がどこから来て、どこへ向かっているのか、直面する課題と解決策を明らかにする。

1 Semiconductor introduction(30mins), Device physics(60mins) / 半導体概論(30分)、デバイス物理(60分)
  (1)Semiconductor industry, Foundry business, TSMC and JASM overview.
  (2) Device physics: PN junction, MOS characteristics
  (1)半導体産業、ファウンドリビジネス、TSMCとJASMの概要
  (2)デバイス物理:PN接合、MOS特性
2 Basic process flow introduction / 基本プロセスフロー紹介
  Basic process flow introduction
  基本プロセスフロー紹介
3 Process module: Lithography, ETCH / プロセスモジュール:リソグラフィ、ETCH
  Process module LIT/ETCHintroduction
  プロセスモジュールLIT/ETCH紹介
4 Process module: PVD, CVD, CMP / プロセスモジュール:PVD、CVD、CMP
  Process module PVD/CVD/CMP introduction
  プロセスモジュール PVD/CVD/CMP 紹介
5 (1)Process module: DIF, (2)Manufacturing AMHS / (1)プロセスモジュール:DIF、(2)製造AMHS
  Process module DIF introduction, Manufacturing AMHS introduction
  プロセスモジュールDIF紹介、製造AMHS紹介
6 Design and Technology Co-Optimization on FinFET technology 1 / FinFET技術の設計と技術最適化 1
  Introduce design differences between FinFET and Planar technology
  FinFET技術とPlanar技術の設計上の違いを紹介
7 Design and Technology Co-Optimization on FinFET technology 2 / FinFET技術における設計と技術の最適化 2
  Advanced design mythology to optimize PPA (Performance, Power
  Area) on standard cell, analog, and 3DIC designs
  Explain the difference between FinFET and Planar using those three examples
  PPA(性能、消費電力、面積)を最適化するための高度な設計神話。
  面積)を最適化するための高度な設計神話
  FinFETとPlanarの違いを3つの例で説明する
8 3D package / 3Dパッケージ
  Advanced packaging technology of semiconductor devices
  半導体デバイスの先端パッケージング技術

コメントは受け付けていません。